公司自主研發(fā)的HoFCVD設(shè)備是新一代真空鍍膜領(lǐng)域的革命性技術(shù)。該設(shè)備成功攻克了在 “超高質(zhì)量、超低溫、超大面積、超高性價(jià)比”極限條件下，實(shí)現(xiàn)硅、氮化硅、金剛石、氧化鋁及高性能聚合物（如PTFE、PGMA）等納米級(jí)功能薄膜高效制備的世界性難題，為光伏、顯示、光學(xué)、半導(dǎo)體及軍工等產(chǎn)業(yè)升級(jí)提供了變革性的裝備解決方案。當(dāng)前，公司設(shè)備已導(dǎo)入多家行業(yè)頭部企業(yè)，同時(shí)獲得匯川技術(shù)等十余家專業(yè)投資機(jī)構(gòu)投資。市場(chǎng)與資本的雙重驅(qū)動(dòng)，正推動(dòng)公司邁入體系化、規(guī)模化發(fā)展的全面加速新階段。